鍍膜冷水機（鍍膜機冷水機）工(gōng)作原理是膜體(tǐ)在高溫下(xià)蒸發落在工(gōng)件表面結晶。由于空氣對蒸發的膜體(tǐ)分(fēn)子會産生(shēng)阻力造成碰撞使結晶體(tǐ)變得粗糙無光，所以必須在高真空下(xià)才能使結晶體(tǐ)細密光亮，果如真空度不高結晶體(tǐ)就會失去(qù)光澤結合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發體(tǐ)自然散射，結合差工(gōng)效低光澤差。現在加上中(zhōng)頻(pín)磁控濺射靶用磁控射靶将膜體(tǐ)的蒸發分(fēn)子在電(diàn)場的作用下(xià)加速轟擊靶材，濺射出大(dà)量的靶材原子，呈中(zhōng)性的靶原子（或分(fēn)子）沉積在基片上成膜，解決了過去(qù)自然蒸發無法加工(gōng)的膜體(tǐ)品種，如鍍钛鍍锆等等。

       中(zhōng)頻(pín)設備必須加冷卻水，原因是它的頻(pín)率高電(diàn)流大(dà)。電(diàn)流在導體(tǐ)流動時有一(yī)個集膚效應，電(diàn)荷會聚集在電(diàn)導有表面積，這樣使電(diàn)導發熱所以采用中(zhōng)孔管做導體(tǐ)中(zhōng)間加水冷卻。（主要是圓柱靶）爲什麽也要用水冷卻？磁控濺射靶在發射時會産生(shēng)高溫會使射槍變形，所以它有一(yī)個水套來冷卻射槍。同時還有一(yī)個重要原因磁控濺射可以被認爲是鍍膜技術中(zhōng)突出的成就之一(yī)。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好。從更深層次研究電(diàn)子在非均勻電(diàn)磁場中(zhōng)的運動規律 ,探讨了磁控濺射的更一(yī)般原理以及磁場的橫向不均勻性及對稱性是磁約束的本質原因。磁控濺射可以被認爲是鍍膜技術中(zhōng)突出的成就之一(yī)。它以濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定。

       鍍膜冷水機（鍍膜機冷水機）是一(yī)種水冷卻設備，能提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水設備。其工(gōng)作原理是先向機内水箱注入一(yī)定量的水，通過制冷系統将水冷卻，再由水泵将低溫冷卻水送入需冷卻的設備，冷凍水将熱量帶走後溫度升高再回流到水箱，達到冷卻的作用。冷卻水溫可根據要求自動調節。 冷水機能控制真空鍍膜機的溫度，以保證鍍件的高質量。如果不配冷水機就不能使真空鍍膜機達到高精度、高效率控制溫度的目的。 

鍍膜冷水機（鍍膜機冷水機）在鍍膜的時候，由于真空泵和擴散泵發熱，所以我(wǒ)(wǒ)們需要使用冷水機冷卻，真空鍍膜機選配鍍膜冷水機需要注意的幾點：

1、冷水機的水泵壓力需要加大(dà)。

2、冷水機水泵，蒸發器，管路需要使用不鏽鋼的；因爲真空鍍膜機的載冷劑是純水。

　　鍍膜冷水機（鍍膜機冷水機）特點

　　采用歐美進口壓縮機頭

　　銅管采用無氧焊接法

　　采用進口組件，使用年限長

　　高效率蒸發器及冷凝器，可節省能源30%以上

　　C-15以上采用兩組壓縮機頭，可單獨或共同使用

　　電(diàn)器采用SIEMENS.OMRON.FUJI.ABB.Schneider

　　RS485通訊功能，實現自動化管理（選購）

　　控制方式：采用進口微電(diàn)腦或PLC（選購）控制

鍍膜冷水機（鍍膜機冷水機）規格參數